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> 技术详情
一种发光二极管的外延片及其制造方法
编号:S000021277
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-01
浏览:
2217
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 湖北
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。该外延片包括衬底层、依次覆盖在衬底层上的缓冲层、N型层、多量子阱层和P型层;多量子阱层包括若干个量子垒层和若干个与各量子垒层相互交替生长的量子阱层,每个量子垒层为超晶格结构;超晶格结构由不掺杂的GaN层和n型掺杂的Al
x
In
y
Ga
1-x-y
N层交替层叠而成,其中,0≤x<1,0≤y<1。本发明通过将发光二极管的外延片的中的每个量子垒层设置为超晶格结构,该超晶格结构由不掺杂的GaN层和n型掺杂的Al
x
In
y
Ga
1-x-y
N层交替而成,提高了内量子效率;同时,采用n型掺杂的Al
x
In
y
Ga
1-x-y
N可以有效的增加电子隧穿几率,提高了晶体质量的同时降低了工作电压,提高了抗静电能力,并减小了热阻,降低了结温。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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