本发明公开了一种阵列基板的制造方法及阵列基板、显示器，涉及显示领域，用以保护TFT的有源层。所述制造方法包括：在衬底基板上制作底层金属薄膜，并通过一次构图工艺至少形成薄膜晶体管的栅极；制作覆盖所述栅极的栅绝缘层；制作金属氧化物半导体薄膜，并通过一次构图工艺在与所述栅极相对的位置形成有源层；制作顶层金属薄膜，并通过一次构图工艺至少形成薄膜晶体管的源极和漏极；在本次构图工艺中所使用的刻蚀液的成分包括：双氧水、顶层金属离子络合剂、双氧水的稳定剂，以及表面活性剂；且该刻蚀液的PH值在6-8之间；制作覆盖所述源极、漏极的钝化层，在所述漏极的位置形成连通像素电极的过孔。本发明适用于显示器中阵列基板的设计及制造。