一种具有“T”字型栅结构MOS晶体管（T_gate MOS），属于半导体器件领域。它的特征是在普通MOSFET的沟道区域形成凹槽，使栅极形状为“T”型结构。该结构较普通MOS器件提高了版图利用率、增大了有效沟道宽度，同时具有和三栅器件(Tri_gate MOS)相当的抑制漏致势垒降低效应（DIBL）等短沟道效应（SCE）的优点；与三栅器件相比，T_gate MOS可以在抑制短沟道效应的基础上有效提高驱动电流。因此，T_gate器件能够实现驱动电流更大而漏电较小的效果。本发明工艺与传统MOSFET器件兼容，有利于改善短沟道效应并提高驱动能力，不仅适用于45纳米工艺节点以下的小尺寸器件，还可以推至0.13微米以上的较大尺寸的器件。