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一种负性化学放大光刻胶及其成像方法
编号:S000021140 刷新日期: 有效日期至:2020-11-06 浏览:2341 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法,该负性化学放大光刻胶含有苯酚类树脂、光致产酸剂、交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂。其中苯酚类树脂是所述新型负性化学放大光刻胶的主体材料,光致产酸剂是在光照时能够产生一定强度的酸,交联剂能够与酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩和反应。在所述新型负性化学放大光刻胶成像方法中包括涂布、烘烤、曝光、烘烤和显影等步骤。本发明所述的化学放大负性光刻胶,可以有效提高光刻胶的分辨率及感光速度,同时与正性光刻胶所用的试剂相同,适用于高档集成电路、平板显示及半导体照明芯片制造等领域。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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