本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置，所述方法包括：在衬底基板上沉积栅金属薄膜，通过第一次构图工艺形成包括栅极的第一图形；依次沉积栅极绝缘膜、第一透明导电薄膜、源漏金属薄膜和掺杂a-si薄膜，通过第二次构图工艺形成包括像素电极、源电极、漏电极及掺杂半导体层的第二图形；沉积a-si薄膜，通过第三次构图工艺形成包括TFT沟道、半导体层及栅极绝缘层过孔的第三图形；沉积钝化层薄膜，通过第四次构图工艺形成包括钝化层过孔的第四图形，其中钝化层过孔与栅极绝缘层过孔的位置相对应；沉积第二透明导电薄膜，通过第五次构图工艺形成包括电性连接部的第五图形。本发明的方法能够减少制程，提高产品品质。