本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和显示装置，涉及通过4次Mask制作阵列基板的工艺方法。阵列基板制造方法，包括公共电极层、栅金属层、半导体层层、源漏电极层、钝化层及像素电极层的制作过程；其中，所述钝化层和所述像素电极层通过一次构图工艺制作。本发明提供的阵列基板制造方法，省略了一次掩膜版的使用，降低了生产成本。本发明适用于ADS模式阵列基板的制造。