本发明涉及半导体晶片加工过程中匀胶机的光刻胶收集杯清洗设备，具体地说是一种光刻胶收集杯自动清洗系统，包括外罩、防溅盖、微型接头、调压阀、清洗液罐、药液阀及回吸阀，外罩罩在晶片的外围，在外罩的顶部安装有防溅盖；微型接头安装在防溅盖的顶部，清洗液罐通过管路与微型接头相连通，并在清洗液罐与微型接头之间的管路上设有药液阀及回吸阀，调压阀通过管路与清洗液罐连通；清洗液罐中的清洗液通过经调压阀调压的气体压出，依次经过药液阀、回吸阀、微型接头进入到防溅盖与外罩围成的腔体内，对防溅盖及外罩的内壁进行清洗。本发明解决了人工清洗光刻胶收集杯所产生的清洗不彻底、效率低、影响产能等问题，具有结构简单可靠，成本低的优点。