本发明公开了半导体制造技术领域，特别涉及一种腔室气流控制系统及方法。本发明包括PCC控制器和至少一个腔室控制单元；腔室控制单元包括压力传感器、风机过滤器、和所述风机过滤器连接的状态检测单元、与所述压力传感器、风机过滤器和状态检测单元连接的数据处理单元、和所述数据处理单元连接的数据传输单元。本发明能够对腔室内的气体压力进行实时控制，使得腔室内的气体压力维持在设定值。