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> 技术详情
一种RC-LIGBT器件及其制作方法
编号:S000020725
刷新日期:
有效日期至:
2020-09-28
浏览:
2307
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 四川
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种RC-LIGBT器件及其制作方法,属于功率半导体器件及集成电路领域。本发明在传统RC-LIGBT结构的基础上,在器件集电极结构中引入了P型阱区,该P型阱区将集电极结构中的N+集电极短路区包围在里面,且通过连接金属与N型场截止区短接。本发明提供的RC-IGBT器件在正向导通过程中,能够屏蔽背部N型区对开启过程的影响,从而可以完全消除传统RC-LIGBT固有的负阻现象,从而提高了器件的稳定性和可靠性。本发明适用于功率半导体集成电路。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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