本发明公开了一种阵列基板制备方法及阵列基板和显示装置，涉及液晶显示技术领域，用于减少阵列基板制备过程中的构图工艺次数。该阵列基板的制备方法包括：形成包括栅线和栅电极的栅极金属层的图形，并在所述栅极金属层的图形上与栅极引线孔对应的位置处保留光刻胶；依次形成栅绝缘薄膜、半导体薄膜和源漏极金属薄膜；去除所述保留在所述栅极金属层的图形上与栅极引线孔对应的位置处的光刻胶，形成栅极引线孔；形成包括源极、漏极和数据线的源漏极金属层和半导体层的图形；形成包括像素电极层和沟道的图形。