本发明提供一种低温相氧化铋光催化剂的退火方法，属于半导体光催化领域。将氧化铋和供氧化合物真空密封，在300℃～900℃温度中，保温时间为1-72小时进行高温保温退火，最后自然降温。该方法提高其对于可见光的利用率，进而提高其可见光光催化效率。