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薄膜晶体管、其制造方法以及使用了该薄膜晶体管的显示装置
编号:S000020579 刷新日期: 有效日期至:2020-12-27 浏览:2009 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种薄膜晶体管、其制造方法以及使用了该薄膜晶体管的显示装置。本发明的薄膜晶体管具备半导体膜、栅电极、源电极、以及漏电极,其中,栅电极、源电极以及漏电极内的至少1个电极具有包括由铜合金构成的第1电极层和由纯铜构成的第2电极层的2层构造,第1电极层的铜合金是针对铜添加了P和其他元素的铜合金,其他元素是从Mn、Mg、Ca、Ni、Zn、Si、Al、Be、Ga、In、Fe、Ti、V、Co、Zr、以及Hf内选择的至少1种元素,第1电极层的厚度是10nm以上50nm以下,第2电极层的厚度是300nm以上600nm以下,其他元素的浓度与第1电极层的厚度之积的范围是50at.%·nm以上400at.%·nm以下。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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