本发明公开了一种阵列基板制作方法，涉及显示技术领域，包括以下步骤：在基板上形成包括栅极和栅线的图形；在形成有所述栅极和所述栅线的基板上形成栅绝缘层和半导体层的图形，并在所述半导体层上方通过栅极背曝光确定沟道区域；在形成有所述栅绝缘层和所述半导体层的基板上形成包括源漏电极、数据线、沟道、钝化层和过孔的图形；在形成有所述源漏电极、所述数据线和所述钝化层的基板上形成像素电极的图形。还公开了一种阵列基板和显示装置。本发明采用自对准技术，利用栅极背曝光技术，可以精确的确定出沟道区域，从而使栅极和源漏电极之间的对位更加准确，减小了源漏电极与栅极之间的交叠串扰，避免了液晶显示器的色度不均的现象。