本发明提出一种全新的无尘抹布清洗方法，包括将抹布浸泡于经过离子交换树脂过滤的超纯水，并加入脂肪醇聚乙二醇醚、烷基三甘油酰胺和磺基琥珀酸，同时要进行织物精练与酸碱清洗、烘干冷却和无尘检测。所述清洗方法是本公司经过多年创新实践研究总结出来的清洗工艺，通过本发明所述方法清洗出来的无尘抹布几乎完全的清除了其中的有机和无机残留物、液体尘粒以及阴阳离子等污染物，完全满足了半导体生产线芯片、微处理器、半导体装配生产线、碟盘驱动器、LCD显示类产品、无尘车间等诸多领域对抹布的无尘清洁要求，属于无尘抹布清洗加工技术领域的一种革新。