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> 技术详情
Ω形鳍式场效应晶体管的形成方法
编号:S000020461
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-22
浏览:
2463
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供一种Ω形鳍式场效应晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上具有介质层以及在所述介质层上的鳍部;形成覆盖所述鳍部上表面及侧壁的掩膜层,且所述掩膜层暴露所述鳍部的部分侧壁;以及以所述掩膜层为掩膜,去除部分所述鳍部,在所述鳍部的侧壁形成凹陷部分。形成的Ω形鳍部具有凹陷部分,与栅极结构的接触面积更大,从而增大了驱动电流,改善了器件性能。
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