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鳍式场效应管及其形成方法
编号:S000020245 刷新日期: 有效日期至:2020-12-24 浏览:2399 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种鳍式场效应管及其形成方法,其中,所述鳍式场效应管,包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底表面的绝缘层;位于所述绝缘层表面的若干鳍部,所述鳍部包括:位于绝缘层表面且垂直于所述半导体衬底的两个分立平行的侧壁层、以及位于所述侧壁层顶部且由所述两个侧壁层支撑的顶部层;横跨所述鳍部的顶部层和侧壁层的栅极结构;位于所述栅极结构两侧的鳍部内的源/漏区。所述鳍式场效应管的漏电流减少,性能提高。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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