本发明实施例公开了一种阵列基板、其制造方法及显示装置，涉及液晶显示技术领域，解决了现有技术制造阵列基板时为了降低普通掩膜板使用数量而采用半透掩膜板或灰阶掩膜板导致的工艺控制难度增加的问题。该方法包括：在基板上形成栅极金属层，通过构图工艺形成包括栅极和栅线的图案；在形成有栅极和栅线图案的基板上依次形成绝缘层、半导体材料层和源/漏金属层，通过构图工艺形成包括半导体层、源/漏电极和数据线的图案，其中源/漏电极的图案与半导体层的图案一致；在形成有半导体层、源/漏电极和数据线图案的基板上形成第一透明导电层，通过构图工艺形成第一透明电极的图案，并在源/漏电极的图案上形成间隙以形成源极和漏极的图案。