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一种自对准石墨烯场效应晶体管及其制备方法
编号:S000020119 刷新日期: 有效日期至:2020-10-06 浏览:1995 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种自对准石墨烯场效应晶体管及其制备方法,该自对准石墨烯场效应晶体管包括半导体衬底、绝缘层、导电通道、源电极、漏电极、栅介质层、栅金属和自对准金属,其中,绝缘层形成于半导体衬底上,导电沟道形成于绝缘体上,导电沟道由石墨烯构成,源电极和漏电极分别形成于导电通道的两侧,栅介质层选择性沉积在源电极和漏电极之间的导电沟道上,栅金属形成于栅介质层之上,栅介质层与栅金属同时图形化堆砌在一起形成栅堆积层,对沟道区载流子浓度进行调控;自对准金属层覆盖源电极、漏电极、导电通道以及栅金属之上,减小未被栅条覆盖区域面积,实现器件栅与源漏的自对准。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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