本发明公开了一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，该系统包括：主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置。本发明主要用于消除半导体清洗机内部环境中的各项污染源，使半导体清洗机内部始终处于恒定压力值的稳定层流环境，有效防止和去除空气中的颗粒和浮尘，方便地了解设备内部洁净度，并且有效消除设备内部产生的静电，从而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性，最终使芯片成品率增加，降低电子元器件的生产制造成本。