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制造显示设备的方法和蚀刻溶液组合物
编号:S000020082 刷新日期: 有效日期至:2020-11-27 浏览:2444 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种制造显示设备的方法和蚀刻溶液组合物,所述蚀刻溶液组合物用于上述方法。所述用于铜金属层/金属氧化物层的蚀刻溶液组合物用于同时蚀刻含有所述铜金属层的数据金属层和含有所述金属氧化物层的氧化物半导体层,所述蚀刻溶液组合物依次进行所述数据金属层和所述氧化物半导体层的图案形成,以便形成半导体图案和包括数据线路、源电极和漏电极的源图案。因此,本发明的组合物有效地适用于所述制造显示设备的方法,确保改善薄膜晶体管和显示设备的制造过程中的生产率和可靠性。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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