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> 技术详情
一种薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
编号:S000020008
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-01
浏览:
2308
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 广东
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开一种薄膜晶体管阵列基板及其制作方法,在基板上沉积透明导电层和第一金属层,利用一多段式调整光罩对透明导电层和第一金属层进行图案化形成栅极、共通电极和反射层,栅极包括透明导电层和第一金属层,共通电极由透明导电层形成,反射层由第一金属层形成;沉积栅绝缘层,利用第二光罩对栅绝缘层进行图案化,保留位于栅极上方的栅绝缘层;沉积半导体层,利用第二光罩对半导体层进行图案化,保留位于栅极上方的半导体层;以及沉积第二金属层,利用第三光罩来图案化形成包括第二金属层的源极和漏极。本发明简化了工艺,降低了薄膜晶体管阵列基板的制作难度以及成本。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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