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> 技术详情
具有漏斗形沟槽的屏蔽栅极MOSFET装置
编号:S000020006
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-08
浏览:
2266
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种MOSFET装置具有在半导体衬底中蚀刻的漏斗形沟槽。所述漏斗形沟槽具有喇叭形缘,所述喇叭形缘从在所述半导体衬底的表面处的较宽横截面沟槽开口延伸到终止于所述半导体衬底的外延层部分中的较窄横截面沟槽主体部分。栅电极安置在所述沟槽中位于所述喇叭形缘上。所述装置的源极和栅极区分别与所述喇叭形缘的上部和下部部分邻接。所述装置的与所述较窄横截面沟槽主体部分邻接的漏极区与栅电极的下边缘自对准。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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