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鳍部、鳍部及鳍式场效应晶体管的形成方法
编号:S000020005 刷新日期: 有效日期至:2020-12-31 浏览:2026 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种鳍部、鳍部及鳍式场效应晶体管的形成方法,所述鳍部的形成方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底具有第一子鳍部;形成覆盖所述半导体衬底表面的牺牲层,所述牺牲层的表面与第一子鳍部的顶部表面平齐;去除部分厚度的第一子鳍部,形成凹槽,剩余的第一子鳍部作为第一鳍部;在凹槽的底部形成硅锗层,在硅锗层表面形成单晶硅层,单晶硅层的表面与牺牲层的表面的平齐;去除部分厚度的牺牲层,暴露出硅锗层的侧壁;沿硅锗层的两侧去除部分宽度的硅锗层,形成第二鳍部。本发明实施例的方法提高了鳍式场效应晶体管的驱动电流。
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