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> 技术详情
鳍部、鳍部及鳍式场效应晶体管的形成方法
编号:S000020005
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-31
浏览:
2423
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种鳍部、鳍部及鳍式场效应晶体管的形成方法,所述鳍部的形成方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底具有第一子鳍部;形成覆盖所述半导体衬底表面的牺牲层,所述牺牲层的表面与第一子鳍部的顶部表面平齐;去除部分厚度的第一子鳍部,形成凹槽,剩余的第一子鳍部作为第一鳍部;在凹槽的底部形成硅锗层,在硅锗层表面形成单晶硅层,单晶硅层的表面与牺牲层的表面的平齐;去除部分厚度的牺牲层,暴露出硅锗层的侧壁;沿硅锗层的两侧去除部分宽度的硅锗层,形成第二鳍部。本发明实施例的方法提高了鳍式场效应晶体管的驱动电流。
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认证方式:
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