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纳米线场效应晶体管及其形成方法
编号:S000019867 刷新日期: 有效日期至:2020-12-09 浏览:2034 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种纳米线场效应晶体管及其形成方法,形成纳米线场效应晶体管的方法包括:提供SOI衬底,SOI衬底包括第一半导体衬底、位于第一半导体衬底上的埋层、位于埋层上的第二半导体衬底;图形化第二半导体衬底形成源极区域、漏极区域以及纳米线;去除纳米线下方部分厚度的埋层,以形成凹槽,使纳米线悬置于凹槽中;在图形化后的第二半导体衬底和剩余埋层围成的区域的侧面形成侧墙;在源极区域侧面的侧墙和漏极区域侧面的侧墙之间形成包括栅极和栅介质层的栅极结构,栅极和侧墙的宽度之和等于纳米线的长度;对源极区域和漏极区域进行离子掺杂,形成源极和漏极。本技术方案缩短了纳米线的长度,可以减小源极和漏极之间的串联电阻。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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