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一种分离发光二极管衬底的方法
编号:S000019827 刷新日期: 有效日期至:2020-10-23 浏览:2430 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 安徽 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种分离发光二极管衬底的方法,包括步骤:提供一生长衬底;在所述生长衬底上形成第一半导体层,其呈倒置金字塔锥体阵列分布,各个单元相互分离;在所述第一半导体层之上形成发光外延层;湿法蚀刻所述呈倒置金字塔锥体阵列分布的第一半导体层,从而分离生长衬底。其为在倒置金字塔锥体阵列上生长发光二极管外延层,将此结构置于可快速蚀刻此条状倒置金字塔锥体阵列材料的溶液里,藉由快速蚀刻此条状倒置金字塔锥之尖端而与原先衬底分离。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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