您当前的位置:首页 > 供应列表 > 技术详情
一种清洗雾化喷射装置
编号:S000019768 刷新日期: 有效日期至:2020-10-19 浏览:2539 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及半导体晶片工艺技术领域,特别涉及一种清洗雾化喷射装置。该清洗雾化喷射装置,包括:上壳体、与上壳体连接的下壳体;上壳体为二阶圆筒状,包括第一阶壳体和第二阶壳体,第一阶壳体的横截面积小于第二阶壳体的横截面积;第一阶壳体设有可与功率放大器连接的电缆接头,第二阶壳体中设有换能器;下壳体的两侧壁设有通气孔隙,下壳体的中心位置设有雾化喷射通孔,通气孔隙与雾化喷射通孔相通且具有夹角。本发明提供的清洗雾化喷射装置,结构简单,集成度高,可有效实现喷射超微雾化液滴,在不损伤晶片表面图案的前提下,对晶片进行有效清洗,并最大程度的节约水资源。
分享到:
联系方式
在线QQ: 点击这里
机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
China-Arab States Technology Transfer Center
相似供应