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> 技术详情
新型双栅三端Ⅲ族氮化物增强型HEMT器件
编号:S000019761
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-26
浏览:
2627
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 江苏
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种新型双栅三端Ⅲ族氮化物增强型HEMT器件,包括源、漏极以及异质结构,源、漏极通过异质结构中的二维电子气形成电连接,其中异质结构包括:设置于源、漏极之间的第一半导体;形成于第一半导体表面的第二半导体,其第二半导体表面设有主栅,主栅位于源、漏极之间靠近源极一侧,并与第二半导体形成金属-半导体接触;介质层,其形成于第二半导体和主栅表面,并设置在源、漏极之间,且介质层表面设有顶栅,顶栅对主栅形成全覆盖,且至少顶栅的一侧边缘部向漏或源极有一定延伸;以及,用于使主、顶栅实现同步信号控制的分压补偿电路。本发明可以对增强型HEMT器件中的“电流崩塌效应”进行有效控制,还可将双栅电极四端器件等同于三端器件应用于电路中。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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