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> 技术详情
一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法
编号:S000019754
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-27
浏览:
2411
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明涉及显示技术领域,公开了一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法。所述阵列基板,包括薄膜晶体管器件,所述薄膜晶体管包括半导体有源层,所述薄膜晶体管器件的半导体有源层的材质为微晶硅。半导体有源层采用微晶硅,可以提高载流子迁移率。本发明提供阵列基板的制备方法,激光退火时源漏金属层起到传热作用,使半导体有源层的非晶硅转化为微晶硅,使得阵列基板的载流子迁移率提高,进而降低其工作电压和功耗,进一步提高显示装置的分辨率和亮度。而且,相对于多晶硅阵列基板,本发明的阵列基板的成本低,工艺简单。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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