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一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法
编号:S000019754 刷新日期: 有效日期至:2020-11-27 浏览:2411 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及显示技术领域,公开了一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法。所述阵列基板,包括薄膜晶体管器件,所述薄膜晶体管包括半导体有源层,所述薄膜晶体管器件的半导体有源层的材质为微晶硅。半导体有源层采用微晶硅,可以提高载流子迁移率。本发明提供阵列基板的制备方法,激光退火时源漏金属层起到传热作用,使半导体有源层的非晶硅转化为微晶硅,使得阵列基板的载流子迁移率提高,进而降低其工作电压和功耗,进一步提高显示装置的分辨率和亮度。而且,相对于多晶硅阵列基板,本发明的阵列基板的成本低,工艺简单。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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