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沟槽型功率晶体管组件及其制作方法
编号:S000019667 刷新日期: 有效日期至:2020-11-29 浏览:1982 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种沟槽型功率晶体管组件,包含有一半导体衬底、至少一晶体管单元、一栅极金属层、一源极金属层以及一第二栅极导电层。半导体衬底具有至少一个第一沟槽。晶体管单元包含有一设置在第一沟槽内的第一栅极导电层。栅极金属层与源极金属层设置在半导体衬底上。第二栅极导电层设置在第一栅极导电层与源极金属层之间。第二栅极导电层电性连接第一栅极导电层与栅极金属层,且第二栅极导电层与源极金属层以及半导体衬底电性绝缘。借此,各晶体管单元的各栅极的电阻可被降低,且沟槽型功率晶体管组件的栅极输入电阻也可被缩小。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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