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> 技术详情
沟槽型功率晶体管组件及其制作方法
编号:S000019667
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-29
浏览:
2379
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种沟槽型功率晶体管组件,包含有一半导体衬底、至少一晶体管单元、一栅极金属层、一源极金属层以及一第二栅极导电层。半导体衬底具有至少一个第一沟槽。晶体管单元包含有一设置在第一沟槽内的第一栅极导电层。栅极金属层与源极金属层设置在半导体衬底上。第二栅极导电层设置在第一栅极导电层与源极金属层之间。第二栅极导电层电性连接第一栅极导电层与栅极金属层,且第二栅极导电层与源极金属层以及半导体衬底电性绝缘。借此,各晶体管单元的各栅极的电阻可被降低,且沟槽型功率晶体管组件的栅极输入电阻也可被缩小。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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