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> 技术详情
晶体管及其形成方法
编号:S000019644
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-15
浏览:
2282
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种晶体管及其形成方法,其中所述晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底内形成凹槽;在所述凹槽内形成含碳的硅锗应变层;在含碳的硅锗应变层上形成栅极结构。本发明实施例的方法,提高沟道区载流子的迁移率。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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