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晶体管及其形成方法
编号:S000019644 刷新日期: 有效日期至:2020-10-15 浏览:2282 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种晶体管及其形成方法,其中所述晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底内形成凹槽;在所述凹槽内形成含碳的硅锗应变层;在含碳的硅锗应变层上形成栅极结构。本发明实施例的方法,提高沟道区载流子的迁移率。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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