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一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板及显示装置
编号:S000019628 刷新日期: 有效日期至:2021-01-01 浏览:2299 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 安徽 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明实施例提供一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板及显示装置,涉及显示技术领域。在不影响像素开口率的前提下,可以增大薄膜晶体管沟道的宽长比。该薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极,以及半导体有源层。其中源极覆盖半导体有源层的四周,漏极位于半导体有源层的中心区域,在源极和漏极之间设有绝缘层。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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