本发明涉及一种像素结构及其制作方法，制作方法包括以下步骤：于基板上形成扫描线、栅极、氧化物导体层、金属导体层、氧化物半导体层以及绝缘层；该氧化物导体层包括像素电极以及第一辅助图案层，其部分地重迭于栅极所在面积；该第一辅助图案层包括第一金属接触部以及第一半导体接触部；该金属导体层包括数据线、源极以及漏极，该源极连接于数据线，该源极与漏极彼此分离，该漏极接触第一金属接触部并暴露出源极与漏极间的第一半导体接触部，而电性连接像素电极；该氧化物半导体层连接于源极与漏极之间并接触第一半导体接触部；该绝缘层位于栅极与金属导体层之间。