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缺陷检查方法
编号:S000019567 刷新日期: 有效日期至:2020-09-30 浏览:2134 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明的目的在于提供能以芯片单位掌握缺陷信息,即使是基板缺陷较多的低品质晶片也能够早早地检出缺陷,提高半导体晶片工艺的成品率的缺陷检查方法。本发明涉及的缺陷检查方法,是检查半导体晶片(1)的缺陷的缺陷检查方法,具备:(a)在检查对象的半导体晶片(1)上,对于半导体晶片(1)上的既定的器件芯片(2)形成与由该半导体晶片(1)生成的器件芯片(2)的尺寸对应的标记(4)的工序;(b)在半导体晶片工艺的既定的工艺中,或者在半导体晶片工艺之前,进行半导体晶片(1)的缺陷检查,将标记(4)作为基准,识别缺陷信息的工序。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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