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半导体结构和形成场效应晶体管的方法
编号:S000019476
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-04
浏览:
2465
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明涉及图形化碳纳米管中的接触。更具体而言,涉及一种结构,其包括具有布置在表面之上的碳纳米管(CNT)的衬底。CNT部分地布置在保护性电绝缘层中。该结构还包括布置在衬底之上的栅极堆。CNT的没有被保护性电绝缘层覆盖的长度的第一部分穿过栅极堆。源极接触和漏极接触与栅极堆相邻布置,其中CNT的没有被保护性电绝缘层覆盖的长度的第二部分和第三部分导电耦合到源极接触和漏极接触。栅极堆及源极接触与漏极接触包含在保护性电绝缘层中并且包含在布置在保护性电绝缘层之上的电绝缘有机平面化层中。还描述了一种制造基于CNT的晶体管的方法。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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