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用于在半导体制造中实施抛光工艺的方法和装置
编号:S000019353
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-09
浏览:
2736
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供了用于制造半导体器件的装置。该装置包括用于对晶圆实施抛光工艺的抛光头。该装置包括可旋转地连接至抛光头的保持环。保持环可用于紧固将被抛光的晶圆。该装置包括位于保持环内的软材料部件。软材料部件比硅软。软材料部件用于在抛光工艺期间研磨晶圆的倾斜区域。该装置包括可旋转地连接至抛光头的喷嘴。喷嘴用于在抛光工艺期间向晶圆的倾斜区域散布清洁溶液。本发明还提供了用于在半导体制造中实施抛光工艺的方法和装置。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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