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具有过压保护的半导体器件及基于该器件的双向极性器件
编号:S000019284 刷新日期: 有效日期至:2020-11-11 浏览:2232 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 浙江 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及半导体器件,特别是一种具有过压保护的半导体器件及基于该器件的双向极性器件。本发明是通过以下技术方案得以实现的:具有过压保护的半导体器件,它包括:衬底、第一区域、第二区域;每个第一区域的上部至少设有一个第二区域;衬底在相邻第一区域之间形成第一开口区域;每个第一开口区域处都设有一个连接衬底及相邻第一区域的呈第二导电类型的第三区域;衬底的下部设有呈第二导电类型的第四区域;第三区域上方设有第一绝缘层,且所述第一绝缘层沿相应第三区域的两侧延伸并覆盖部分第一区域;第二区域与第一区域都连接有第一金属接触;第四区域连接有第二金属接触。本发明具有较高的过电流性能,提高了器件的可靠性。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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