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> 技术详情
具有额外有源区域的半导体装置之间的隔离区域
编号:S000019250
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-05
浏览:
2259
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明描述一种提供集成电路上的半导体装置之间的额外有源区域的隔离区域。在一个实施例中,本发明包含:具有源极、漏极和所述源极与所述漏极之间的栅极的图像传感器的互补金属氧化物半导体晶体管,所述晶体管具有用以在所述栅极的影响下耦合所述源极与所述漏极的沟道;以及隔离屏障,其围绕所述源极和所述漏极的周边以将所述源极和所述漏极与其它装置隔离,其中所述隔离屏障距所述沟道的中心部分某一距离。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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