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将单晶半导体层转移到支承衬底上的方法
编号:S000019161 刷新日期: 有效日期至:2020-12-31 浏览:2259 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及将单晶半导体层转移到支承衬底上的方法。这种将单晶半导体层(3)转移到支承衬底(1)上的方法包括以下步骤:a)将物种注入施主衬底(31);b)将施主衬底(31)键合至所述支承衬底(1);c)使施主衬底(31)断裂以便将层(3)转移到支承衬底(1)上;以及以下步骤:使待被转移的单晶层(3)的部分(34)变为非晶,而没有打乱所述层(3)的第二部分(35)的晶格,所述部分(34、35)分别为所述单晶层(3)的表面部分和隐埋部分;所述非晶部分(34)在低于500℃的温度下再结晶,所述第二部分(35)的晶格用作再结晶的籽晶。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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