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> 技术详情
非易失性半导体存储装置及其制造方法
编号:S000019153
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-17
浏览:
2412
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
提供一种非易失性半导体存储装置,具备减小了构成电阻变化元件的下部电极和电阻变化层之间的寄生电阻的电阻变化元件。该非易失性半导体存储装置具备:基板(201);以及电阻变化元件(208),形成于基板(201)上;电阻变化元件(208)具有:下部电极层(202),形成于基板(201)上;电阻变化层(203),形成于下部电极层(202)上;以及上部电极层(204),形成于电阻变化层(203)上;下部电极层(202)至少包括:第1导电层(202a);以及第2导电层(202c),形成于第1导电层(202a)上,与电阻变化层(203)相接;在第1导电层(202a)的上表面形成有第1导电层(202a)被氧化而成的层、即氧化变质层(202b)。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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