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一种沟槽型半导体功率器件及其制造方法和终端保护结构
编号:S000019145 刷新日期: 有效日期至:2020-10-08 浏览:2233 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 江苏 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种可降低制造成本、并可提高反向击穿电压的半导体功率器件,包括半导体基板,其中心区由并联的单胞构成有源区,有源区的外围设置有终端保护区,终端保护区包括至少一个分压环和至少一个截止环,截止环位于分压环的外围;终端保护区内设置有第一沟槽,第一沟槽形成终端保护区的分压环;所述第一沟槽内壁生长有绝缘栅氧化层,沟槽内的两侧分别设置有第一多晶硅场板和第二多晶硅场板,第一多晶硅场板与第二多晶硅场板通过绝缘介质层相隔离;第一沟槽两侧及底部设置有第二导电类型层。本发明还公开了上述半导体功率器件的制造方法。本发明在降低半导体功率器件制造成本的同时,还大大提高了半导体功率器件的耐压能力和可靠性。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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