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半导体器件及其制造方法
编号:S000019120 刷新日期: 有效日期至:2020-11-17 浏览:2420 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明的目的是得到下述半导体器件,即能够与P型阳极层的杂质浓度无关地保持耐压,同时能够利用P型阳极层的杂质浓度控制导通电压,由此不进行寿命控制就能够控制导通电压与恢复损耗的折衷选择性,而且能够抑制阶跃现象。解决手段是,在N-型漂移层(1)上设置P型阳极层(2)。贯通P型阳极层地设置沟槽(3)。在沟槽(3)内隔着绝缘膜(4)埋入导电性物质(5)。N-型漂移层(1)与P型阳极层(2)之间设置N型缓冲层(6)。N型缓冲层(6)具有比N-型漂移层(1)更高的杂质浓度。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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