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互补型金属氧化物半导体管的形成方法
编号:S000018875 刷新日期: 有效日期至:2020-11-12 浏览:2478 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种互补型金属氧化物半导体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,半导体衬底包括第一区域和第二区域,半导体衬底表面具有绝缘层,第一区域表面具有第一开口,第一开口底部具有第一高K介质层,第一高K介质层表面具有伪栅极层,第二区域表面具有第二开口,第二开口底部具有第二高K介质层;在第二开口侧壁及第二高K介质层表面形成第二功函数层;在第二功函数层表面形成第二栅电极层,第二栅电极层的材料为铜;之后去除第一开口内的伪栅极层;再在第一开口侧壁及第一高K介质层表面依次形成第一功函数层;在第一功函数层表面依次形成第一阻挡层和第一栅电极层,第一栅电极层的材料为铝。所形成的互补型金属氧化物半导体管性能稳定。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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