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> 技术详情
超薄纳米片半导体材料的制备方法
编号:S000018759
刷新日期:
有效日期至:
2020-09-30
浏览:
2247
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 安徽
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供了一种超薄纳米片半导体材料及其制备方法和应用,所述制备方法包括:将第一高沸点有机溶剂加热,得到第一溶液;将A的前驱源A
n
B
m
和R的前驱源R
j
V
k
在第二高沸点有机溶剂中加热溶解,得到第二溶液;将所述第一溶液和所述第二溶液混合后加热搅拌,即得到超薄纳米片半导体材料。本发明制备工艺简单,重复性好,可控性强,制得的纳米材料的厚度可至1~50nm,为超薄纳米片结构,并且本发明所制备的超薄纳米片半导体材料具有优异的光热转换效果,可作为新型的光热转换材料在太阳能电池或太阳能集热装置中应用。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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