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非易失性半导体存储器的UV编程系统和方法
编号:S000018742 刷新日期: 有效日期至:2021-01-06 浏览:2028 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及非易失性半导体存储器的UV编程系统和方法,半导体存储器存储器件包括设置在半导体衬底中的第一掺杂类型的第一和第二掺杂区域。第一类型的第一和第二掺杂区域彼此横向隔开。栅极电介质在第一和第二掺杂区域之间的半导体衬底的上方延伸,并且浮栅设置在栅极电介质上。紫外线(UV)光阻隔材料垂直设置在浮栅之上并具有覆盖浮栅的大小,使得在半导体存储器器件暴露于UV光之后浮栅保持充电。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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