本发明公开了一种基于单类支持向量机的半导体过程监测方法，本发明采用单类支持向量机方法，利用其优越的单类数据分类性能，对半导体过程进行监测。相比目前的其它方法，本发明方法不仅可以大大提高半导体过程的监测效果，而且在很大程度上降低了半导体过程监测的复杂性，更加有利于半导体过程的工业自动化。