本发明涉及一种适用于半导体芯片的单面腐蚀装置，包括工作台（1）、腐蚀系统（2）、上液系统（3）和循环回流系统（4），每个腐蚀系统（2）包括一槽体（21），槽体（21）底部设置有一腐蚀液注入口（22），腐蚀液注入口（22）出口设置有一第一阻尼板（23），槽体（21）中部设置有一第二阻尼板（24），第二阻尼板（24）上竖直设置有多个承片柱（25），槽体（21）上部槽壁设置有溢流孔（26）；所述上液系统（3）包括一储液槽（31）和上液泵（32）；所述循环回流系统（4）包括一第三管道（41）。本发明改变了传统的单面腐蚀装置，对半导体芯片的腐蚀更充分，并实现腐蚀半自动化，同时有效提高产品的可靠性与工作的效率。