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> 技术详情
红外半导体激光器有源区、半导体激光器及其制作方法
编号:S000018644
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-28
浏览:
2519
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 江苏
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种红外半导体激光器的有源区,所述有源区包括量子阱结构,所述量子阱结构中势阱层的材料为In
m
Ga
1-m
As
1-n
Bi
n
,所述量子阱结构中势垒层的材料为In
x
Ga
1-x
As
1-y
Bi
y
,其中m=0.48~0,n=0.04~0.34;x=0.48~0.54,y=0.04~0。本发明采用In
x
Ga
1-x
As
1-y
Bi
y
材料作为半导体激光器有源区的材料,基于晶格匹配生长,能够兼容DBR、DFB及垂直腔面发射激光器等其它类型激光器结构,且激光器采用无Al结构提高了器件的性能及寿命。本发明还提供了半导体激光器及其制作方法。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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