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> 技术详情
一种非外延生长半导体的方法
编号:S000018637
刷新日期:
有效日期至:
2020-09-28
浏览:
2536
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明涉及一种非外延生长半导体的方法,属于纳米材料的制备领域。该方法为低温液相法:在衬底上滴加银溶胶,银溶胶中溶剂挥发后得银薄膜;衬底银薄膜面朝上加入乙醇和1-硫代癸烷丙酮溶液,静置,加入硫族元素前驱体溶液,混合后30~80℃反应4~12h,用无水乙醇洗,自然晾干,得非晶薄膜;非晶薄膜面朝上,加入甲苯、油酸和油胺,静置,加入镉盐的甲醇溶液和膦配体,50~80℃反应2~6h,用无水乙醇洗,自然晾干,得非外延生长的半导体。该方法成本低,易规模化生产;不受晶格失配度、沉积临界厚度和衬底限制,可大晶格失配度下在不同衬底上原位生长一维微/纳结构或二维薄膜结构的单晶半导体,应用领域广泛。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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