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化合物半导体器件及其制造方法
编号:S000018598 刷新日期: 有效日期至:2020-12-04 浏览:2255 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及化合物半导体器件及其制造方法。一种HEMT(高电子迁移率晶体管)具有:化合物半导体层、具有开口并且覆盖化合物半导体层的上侧的保护膜以及填充开口并且具有骑在化合物半导体层上的形状的栅电极,其中保护膜具有不含氧的下绝缘膜与包含氧的上绝缘膜的堆叠结构,并且,开口包括形成在下绝缘膜中的第一开口和形成在上绝缘膜中且比第一开口宽的第二开口,第一开口与第二开口彼此连通。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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