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> 技术详情
一种功率半导体器件及其制造方法
编号:S000018593
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-13
浏览:
2370
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 四川
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明涉及半导体技术,具体的说是涉及一种功率半导体器件及其制造方法。本发明的一种功率半导体器件,其特征在于将第一类高压nLDMOS器件1、第二类高压nLDMOS器件2、第三类高压nLDMOS器件3、第四类高压nLDMOS器件4、第五类高压nLDMOS器件5、第六类高压nLDMOS器件6、低压NMOS器件7、低压PMOS器件8和低压NPN器件9集成于同一芯片上。本发明的有益效果为,衬底10上实现nLDMOS、低压NMOS、低压PMOS和低压NPN的单片集成,为高压器件提供了低阻的导电通道,提高器件的电导率,大大降低了高压器件的比导通电阻,从而降低芯片的制造成本。本发明尤其适用于功率半导体器件及其制造。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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